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半导体先进光刻理论与技术 读者对象:本书适用于从事光刻技术研究与应用的科研与工程技术人员
本书介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。主要内容涵盖了光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等,包括光刻技术的前沿进展,还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。
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